6月3日消息，国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司、西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“晶圆隐裂检测装置及晶圆隐裂检测方法”的专利，授权公告号CN115938968B，授权公告日为2026年5月29日。申请公布号为CN115938968A，申请号为CN202211678732.7，申请公布日期为2026年5月29日，申请日期为2022年12月26日，发明人胡斌、李昊、刘永亮，专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司，专利代理师罗仕满，分类号H10P74/20。
专利摘要显示，本公开提供了一种晶圆隐裂检测装置及方法，该装置包括：用于承载待测晶圆的载台单元；用于向载台单元上的待测晶圆执行按压动作的按压单元，按压单元位于载台单元的上方，按压单元包括按压杆及驱动件，按压杆轴向垂直于载台单元且沿其自身轴向可运动，按压单元在其轴向上靠近载台单元的一端设有按压头，驱动件连接至按压单元在其轴向上远离载台单元的一端；及用于根据预设按压参数以控制按压单元工作状态的控制单元，预设按压参数包括以下至少一项：按压力度、按压次数、按压位置和按压时间。本公开实施例的晶圆隐裂检测装置及方法能够解决现有技术中晶圆手动检测法不能定量化放大晶圆隐裂损伤的问题，提高检测精度，检出率高。
西安奕材于2016年3月16日成立，2025年10月28日在上海证券交易所上市，注册地和办公地均为陕西省西安市。该公司是国内专注12英寸硅片研发、生产与销售的企业，在半导体材料领域有一定的技术积累。
西安奕材主营业务为12英寸硅片的研发、生产和销售，所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体材料，涉及芯片概念、半导体、存储概念等板块。
2025年，西安奕材营业收入26.49亿元，在26家行业企业中排名第6，行业第一名有研新材为95.42亿元，第二名雅克科技为86.11亿元，行业平均数19.89亿元，中位数11.14亿元。主营业务中，测试片收入10.42亿元占比39.33%，抛光片9.84亿元占比37.15%，外延片6.1亿元占比23.03%，高端测试片4.61亿元占比17.39%，其他（补充）1315万元占比0.50%。净利润方面，2025年为 - 7.38亿元，行业排名25/26，第一名雅克科技为10.3亿元，第二名江丰电子为4.14亿元，行业平均数3265.85万元，中位数8178.71万元。
西安奕斯伟材料科技股份有限公司近期专利情况如下：
序号 专利名称 专利类型 法律状态 申请号 申请日期 公开(公告)号 公开(公告)日期 发明人 1 协同控制体微缺陷的直拉硅单晶生长方法、装置及硅晶圆 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610368132.2 2026-03-24 CN122013300A 2026-05-12 毛勤虎 2 一种加料角度调节方法及系统 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610350636.1 2026-03-20 CN121931593A 2026-04-28 赵嘉诚 3 一种拉晶收尾控制方法、装置及计算机存储介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610346713.6 2026-03-20 CN121931597A 2026-04-28 杨文武、宁沛娜 4 单晶生长方法及设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610345729.5 2026-03-20 CN121931595A 2026-04-28 潘浩、石小磊 5 一种晶体生长控制方法、装置及单晶硅生长炉 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610346716.X 2026-03-20 CN121931598A 2026-04-28 杨文武、宁沛娜 6 一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610347640.2 2026-03-20 CN122008064A 2026-05-12 章晓东 7 抛光机、抛光垫检测方法、装置、检测设备、产品及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610345452.6 2026-03-20 CN122008069A 2026-05-12 杨鑫卓 8 一种加热系统、方法及单晶硅生长装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610349958.4 2026-03-20 CN122039199A 2026-05-15 潘浩、王浩、孙洪涛 9 一种拉制单晶硅棒的方法、系统及晶圆 发明专利 公布 CN202610346714.0 2026-03-20 CN122082099A 2026-05-26 杨文武、宁沛娜 10 一种晶圆形貌分类的方法、装置、设备及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610269906.6 2026-03-06 CN122049540A 2026-05-15 李彤、兰洵、袁力军、李安杰、张婉婉 11 一种单晶炉及单晶炉拉晶方法 发明专利 公布 CN202610269904.7 2026-03-06 CN122105602A 2026-05-29 邹永鑫、郝昭慧、兰洵 12 一种拉制晶棒的方法以及装置 发明专利 公布 CN202610271370.1 2026-03-06 CN122105603A 2026-05-29 杨文武、宁沛娜 13 拉晶方法、装置、系统及单晶硅 发明专利 公布 CN202610271117.6 2026-03-06 CN122105606A 2026-05-29 蔡媛媛、张波娟、赵恒 14 半导体晶棒生长工艺的缺陷检测方法、装置及计算设备 发明专利 公布 CN202610270993.7 2026-03-06 CN122108959A 2026-05-29 蔡媛媛 15 一种半导体拉晶用石英坩埚的防倾斜支撑装置 发明专利 公布 CN202610248184.6 2026-03-02 CN122082097A 2026-05-26 龙飞 16 单晶炉及单晶炉排气管道的清洁方法、装置及介质 发明专利 公布 CN202610161883.7 2026-02-04 CN122105601A 2026-05-29 彭标、孙洪涛、纪天平、姜辉 17 晶棒处理设备和晶棒处理方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610120374.X 2026-01-28 CN121945472A 2026-05-01 郭宏雁、黄兆皓 18 搬运指令生成方法、系统、装置及计算设备 发明专利 公布 CN202610100691.5 2026-01-26 CN122085903A 2026-05-26 刘洋、魏洋、李昊 19 硅片刻蚀方法和硅片刻蚀设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610079762.8 2026-01-21 CN121865865A 2026-04-14 贾志怡 20 晶圆的处理方法、晶圆组件及半导体晶圆 发明专利 公布 CN202610047548.4 2026-01-14 CN122121551A 2026-05-29 王文娟、张博、兰洵、车宇航、刘贵浩 21 控制半导体单晶生长的方法、装置、及晶棒 发明专利 公布 CN202512010297.0 2025-12-29 CN121653837A 2026-03-13 杨文武、宁沛娜 22 半导体制造设备，及其尾气处理方法、系统 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202512010197.8 2025-12-29 CN121944738A 2026-05-01 杨文武、宁沛娜 23 一种硅片缺陷处理方法、表面处理液、硅片及清洗装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202512012667.4 2025-12-29 CN122028669A 2026-05-12 张申申 24 拉晶工艺的功率控制方法、装置、设备及计算机存储介质 发明专利 公布 CN202511996021.8 2025-12-26 CN121675079A 2026-03-17 杨文武、宁沛娜 25 绝缘体上硅衬底及其制备方法 发明专利 公布 CN202511982090.3 2025-12-25 CN122073993A 2026-05-22 李娟、兰洵、蒋治国 26 半导体晶圆及其处理方法和系统 发明专利 公布 CN202511982083.3 2025-12-25 CN122073964A 2026-05-22 李娟、蒋治国、兰洵 27 绝缘体上硅衬底及其制备方法 发明专利 公布 CN202511982091.8 2025-12-25 CN122073994A 2026-05-22 李娟、兰洵、蒋治国 28 双面抛光方法及设备、计算设备、介质及抛光晶圆 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511961424.9 2025-12-24 CN122008066A 2026-05-12 潘石、刘还平、白强强、王明 29 一种晶圆的抛光方法以及晶圆 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511956856.0 2025-12-23 CN121941286A 2026-04-28 贾磊、杨新元、王明 30 硅片评价方法、制造方法、装置及硅片 发明专利 公布 CN202511938952.2 2025-12-22 CN122094465A 2026-05-26 袁力军、李安杰、兰洵、张婉婉、李彤 31 抛光头组件、化学机械抛光系统及晶圆的制备方法 发明专利 公布 CN202511911677.5 2025-12-17 CN121624982A 2026-03-10 王鹏、许涛、杨启 32 晶圆检测设备和晶圆检测方法 发明专利 公布 CN202511904874.4 2025-12-17 CN121678673A 2026-03-17 薛博涛、陈光林、刘玉乾、黄兆皓 33 单晶硅棒的生长控制方法、装置、介质以及单晶炉 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511905877.X 2025-12-17 CN121951677A 2026-05-01 潘浩、崔源进、张鹏举 34 一种晶圆清洁系统及方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511907326.7 2025-12-17 CN121969052A 2026-05-01 康建 35 硅片的切割线痕缺陷检测方法、系统及存储介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511904614.7 2025-12-17 CN122048788A 2026-05-15 杨宗辉、陈曦鹏、王黎昱 36 线切割装置及线切割取样方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511899233.4 2025-12-16 CN121403584A 2026-01-27 王晋飞 37 一种电阻率测试装置及方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511897839.4 2025-12-16 CN121917845A 2026-04-24 贺鹏 38 处理方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质及产品 发明专利 公布 CN202511887022.9 2025-12-15 CN122089632A 2026-05-26 白夏红、陈建勇、范东方、张钊 39 清洗设备、清洗方法、清洗装置、控制设备、产品及介质 发明专利 公布 CN202511866027.3 2025-12-11 CN121665982A 2026-03-13 张树星、陈海龙、夏新超、左斌 40 一种拉晶装置及拉晶方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511869249.0 2025-12-11 CN121781273A 2026-04-03 闫龙、张鹏举、吴超、纪天平、李智超 41 一种边缘缺陷的检测方法、装置、设备、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511869589.3 2025-12-11 CN122016796A 2026-05-12 周淼 42 热场调节装置、单晶炉和热场调节方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511856243.X 2025-12-10 CN121344772A 2026-01-16 黄文洋 43 一种籽晶倾斜检测方法及装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511855413.2 2025-12-10 CN121366283A 2026-01-20 彭标、孙洪涛 44 一种晶棒切割装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511858998.3 2025-12-10 CN121572470A 2026-02-27 王磊磊、霍慧文、刘士靖、刘倩 45 一种砂轮参数确定方法及装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511854835.8 2025-12-10 CN121580854A 2026-02-27 李彤、兰洵、袁力军、李安杰、张婉婉 46 一种拉晶收尾的控制方法及系统 发明专利 公布 CN202511858477.8 2025-12-10 CN121826878A 2026-04-10 纪天平、彭标、闫龙 47 一种晶圆的检测方法、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511859289.7 2025-12-10 CN121908854A 2026-04-21 史铁柱、庞鲁、王龙 48 半导体设备的检验方法、装置、设备、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511854133.X 2025-12-10 CN121978104A 2026-05-05 李康康 49 缺陷晶圆的拦截方法、装置、设备及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511842176.6 2025-12-09 CN121969119A 2026-05-01 程瑜、贺鑫、胡一洲、万珣 50 晶圆边缘质量的评估方法、装置、设备及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511844052.1 2025-12-09 CN122042479A 2026-05-15 薛浩波、袁力军、兰洵、张婉婉天眼查数据显示，西安奕斯伟硅片技术有限公司成立日期2018年2月9日，法定代表人刘还平，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为中型，注册资本660000万人民币，实缴资本660000万人民币，注册地址为陕西省西安市高新区西沣南路1888号。西安奕斯伟硅片技术有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目380次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息1070条，拥有行政许可54个。
西安奕斯伟硅片技术有限公司近期专利情况如下：最正规的配资公司
序号 专利名称 专利类型 法律状态 申请号 申请日期 公开(公告)号 公开(公告)日期 发明人 1 一种研磨定盘及研磨设备、研磨方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610347640.2 2026-03-20 CN122008064A 2026-05-12 章晓东 2 抛光机、抛光垫检测方法、装置、检测设备、产品及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610345452.6 2026-03-20 CN122008069A 2026-05-12 杨鑫卓 3 一种半导体拉晶用石英坩埚的防倾斜支撑装置 发明专利 公布 CN202610248184.6 2026-03-02 CN122082097A 2026-05-26 龙飞 4 晶棒处理设备和晶棒处理方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610120374.X 2026-01-28 CN121945472A 2026-05-01 郭宏雁、黄兆皓 5 搬运指令生成方法、系统、装置及计算设备 发明专利 公布 CN202610100691.5 2026-01-26 CN122085903A 2026-05-26 刘洋、魏洋、李昊 6 一种硅片缺陷处理方法、表面处理液、硅片及清洗装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202512012667.4 2025-12-29 CN122028669A 2026-05-12 张申申 7 晶圆检测设备和晶圆检测方法 发明专利 公布 CN202511904874.4 2025-12-17 CN121678673A 2026-03-17 薛博涛、陈光林、刘玉乾、黄兆皓 8 一种电阻率测试装置及方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511897839.4 2025-12-16 CN121917845A 2026-04-24 贺鹏 9 处理方法及系统、电子设备、计算机可读存储介质及产品 发明专利 公布 CN202511887022.9 2025-12-15 CN122089632A 2026-05-26 白夏红、陈建勇、范东方、张钊 10 一种拉晶装置及拉晶方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511869249.0 2025-12-11 CN121781273A 2026-04-03 闫龙、张鹏举、吴超、纪天平、李智超 11 一种边缘缺陷的检测方法、装置、设备、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511869589.3 2025-12-11 CN122016796A 2026-05-12 周淼 12 热场调节装置、单晶炉和热场调节方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511856243.X 2025-12-10 CN121344772A 2026-01-16 黄文洋 13 一种晶棒切割装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511858998.3 2025-12-10 CN121572470A 2026-02-27 王磊磊、霍慧文、刘士靖、刘倩 14 一种拉晶收尾的控制方法及系统 发明专利 公布 CN202511858477.8 2025-12-10 CN121826878A 2026-04-10 纪天平、彭标、闫龙 15 一种晶圆的检测方法、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511859289.7 2025-12-10 CN121908854A 2026-04-21 史铁柱、庞鲁、王龙 16 半导体设备的检验方法、装置、设备、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511854133.X 2025-12-10 CN121978104A 2026-05-05 李康康 17 缺陷晶圆的拦截方法、装置、设备及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511842176.6 2025-12-09 CN121969119A 2026-05-01 程瑜、贺鑫、胡一洲、万珣 18 硅片研磨的生产系统、控制方法和装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511840651.6 2025-12-08 CN121870626A 2026-04-17 王琛、张宁轩、黄兆皓 19 一种晶圆的检测方法、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511840660.5 2025-12-08 CN121925097A 2026-04-24 史铁柱、庞鲁、王龙 20 一种外延片边缘形貌补偿型晶圆双面抛光装置及方法 发明专利 公布 CN202511770029.2 2025-11-28 CN121535652A 2026-02-17 王俊夫 21 晶圆检测与标识的设备、方法及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511775182.4 2025-11-28 CN121865898A 2026-04-14 李乐杰、张钊、范东方、陈建勇 22 一种基于重力自适应限位的晶圆边缘刻蚀装置及方法 发明专利 公布 CN202511761617.X 2025-11-27 CN121843479A 2026-04-10 郝宁、程辰辰 23 一种抛光垫及晶圆抛光方法 发明专利 公布 CN202511766031.2 2025-11-27 CN121821202A 2026-04-10 王俊夫、柴朝军 24 硅片线痕检测方法、装置、存储介质及电子设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511767321.9 2025-11-27 CN121888926A 2026-04-17 张申申 25 载具搬运方法、系统、装置及计算设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511764667.3 2025-11-27 CN121925077A 2026-04-24 李迅、范东方、王贵石、张更 26 一种具有集成式温度补偿的双面抛光系统及方法 发明专利 公布 CN202511755203.6 2025-11-26 CN121552239A 2026-02-24 王俊夫 27 晶圆生产的控制方法、装置、设备、系统及存储介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511755100.X 2025-11-26 CN121865897A 2026-04-14 赵恒、范东方、陈建勇、张钊 28 确定硅片放置方向的方法、装置、设备及介质 发明专利 公布 CN202511722852.6 2025-11-21 CN121837362A 2026-04-10 李康康 29 一种包装袋折袋装置及方法 发明专利 公布 CN202511711385.7 2025-11-20 CN121536561A 2026-02-17 李毅波、苏建生、韩嘉豪、王奕杰 30 在双面抛光中抑制晶圆划伤的系统、方法及双面抛光设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511711576.3 2025-11-20 CN121589713A 2026-03-03 王俊夫 31 晶棒拉速的优化方法、装置、设备及计算机存储介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511712015.5 2025-11-20 CN121903418A 2026-04-21 秦浩、庞鲁、王龙、同嘉锡 32 一种清洗装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511659712.9 2025-11-13 CN121468400A 2026-02-06 蔡培锋、周勤学 33 一种调整双面抛光设备参数的方法、装置和介质 发明专利 公布 CN202511664476.X 2025-11-13 CN121832444A 2026-04-10 王俊夫、周勤学、王龙飞、杨轩、马驰 34 用于检测物体表面缺陷的方法、装置、系统及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511655376.0 2025-11-12 CN121740778A 2026-03-27 付子成、党志伟 35 用于抛光载盘的预清洗装置、自适应抛光系统及清洗方法 发明专利 公布 CN202511645965.0 2025-11-11 CN121821244A 2026-04-10 王俊夫 36 改善抛光垫平坦度的方法、双面抛光设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511602298.8 2025-11-04 CN121132500A 2025-12-16 杨轩、柴朝军、马驰、王俊夫、邢东 37 工艺腔室的判定方法及装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511592258.X 2025-11-03 CN121443034A 2026-01-30 孙毅、韩喜盈 38 用于抛光垫的检测及清洗装置、方法及抛光设备 发明专利 公布 CN202511551473.5 2025-10-28 CN121670508A 2026-03-17 马驰、杨轩、王俊夫 39 校准系统及校准方法 发明专利 公布 CN202511515728.2 2025-10-22 CN121666003A 2026-03-13 杨舒乐 40 硅片处理装置及方法 发明专利 公布 CN202511499502.8 2025-10-20 CN121665970A 2026-03-13 郭宏雁、郝胤祚、马成琛、冯智、赵栋、贾晓东 41 研磨盘的平坦度测量装置及研磨盘的平坦度测量方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511479663.0 2025-10-16 CN121083517A 2025-12-09 樊明溪、孙介楠、李龙、张鑫 42 一种硅片加工方法及装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511480666.6 2025-10-16 CN121310863A 2026-01-09 蔡培锋、周勤学 43 砂轮修整设备、砂轮修整方法、装置、设备、产品及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511418705.X 2025-09-30 CN121104902A 2025-12-12 朱海海 44 抛光垫清洗装置及抛光设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511425890.5 2025-09-30 CN121267779A 2026-01-06 王俊夫、马驰、杨轩 45 一种硅片缺陷检测方法及装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511418677.1 2025-09-30 CN121358253A 2026-01-16 史铁柱、庞鲁、王龙、贺鹏、原宇乐 46 晶圆的金属水平检测方法、装置、设备及计算机存储介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511426097.7 2025-09-30 CN121510933A 2026-02-10 高坤、林可、李康康 47 一种用于检测薄膜沉积异常的装置和方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511347420.1 2025-09-19 CN121443032A 2026-01-30 程辰辰、郝宁 48 硅片边缘刻蚀装置和硅片边缘刻蚀方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511297217.8 2025-09-11 CN121149050A 2025-12-16 贾帅、王力 49 外延反应腔室恢复方法和外延生长装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511274241.X 2025-09-08 CN121137798A 2025-12-16 韩喜盈、张海博、金柱炫、孙毅、刘凯 50 晶圆加工设备的状态检测方法、装置、设备及介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511219751.7 2025-08-28 CN121275374A 2026-01-06 李昊、刘永亮、胡斌万丰资本提示：文章来自网络，不代表本站观点。
- 上一篇：广东配资公司 长得太美被导演占为己有，25岁生下3个孩子，如今个个都给她争光
- 下一篇：没有了
相关文章
推荐资讯